為進(jìn)一步提升燒堿產(chǎn)能，公司充分利用現(xiàn)有電解裝置配套生產(chǎn)能力，在一、二期電解槽現(xiàn)有預(yù)留區(qū)域新增電解單元槽36個(gè)。
公司燒堿核心裝置采用世界頂尖化學(xué)工程公司日本旭化成最先進(jìn)的ML-NCZ32零極距離子膜電解槽，目前改造實(shí)施方案已完成，正處于裝置采購(gòu)安裝準(zhǔn)備階段。預(yù)計(jì)實(shí)施完成后，單臺(tái)電解單元槽可新增燒堿產(chǎn)能0.5t/d，全年可實(shí)現(xiàn)新增產(chǎn)能6000t。
公司將進(jìn)一步挖掘現(xiàn)有裝置潛力，確保完成全年生產(chǎn)任務(wù)目標(biāo)。

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公司實(shí)施電解單元槽新增項(xiàng)目改造 促進(jìn)燒堿產(chǎn)能提升

公司實(shí)施電解單元槽新增項(xiàng)目改造促進(jìn)燒堿產(chǎn)能提升